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１１２２　真空溅射镀膜

在真空室中，利用荷能粒子轰击材料表面，使其原子获得足够

能量而溅出进入气相，然后在工件表面沉积的过程称为溅射镀

。溅射镀膜的基本原理是，镀膜机，以镀膜材料为阴极，卫浴五金餐具镀膜，以工件（基板）为

较，在真空条件下，利用辉光放电，使通入的氩气电离。氩离子

击靶材，产生阴极溅射效应，靶材原子脱离靶表面后飞溅到基板

形成膜层。为提高氩气碰撞、电离几率，从而提高溅射速率，多

强化放电过程的技术方法被开发和应用，主要包括三较、四较溅

、磁控溅射、对向靶溅射、离子束溅射、射频溅射、反应溅射等。

些内容在相关的书籍中（《表面沉积技术》，王福贞、闻立时，编

）均有较为详细的阐述，真空多弧离子镀膜机，这里就不再赘言。

1）屏蔽机构
在薄膜长度方向产生非蒸镀区，由屏蔽带、主辊遮板、挡板构成．
主要作用：可以调节蒸镀区的宽度，不同宽度的膜在分切以后可以生
产不同类型和大小的电容薄膜．
2）真空系统
由镀膜室真空系统和卷绕室真空系统构成．主要作用：保证真空
室达到适合蒸镀的真空度．想了解更多离子真空镀膜机|金属表面镀膜机|真空镀膜机设备请联系佛山市佛欣真空设备有限公司