镀膜产品的需要,膜厚均匀性程度的要求会有所不同。在一般工业生产
中,膜厚的不均匀程度要求为 依(猿豫 耀 员缘豫)。为提高膜厚均匀度,真空多弧离子镀膜机,可
以采取优化靶磁场、优化靶基距、改变基片运动方式、改进靶充气结构、
增加挡板机构、采用气体放电监控系统和膜厚监控仪等措施。想了解更多离子真空镀膜机|金属表面镀膜机|真空镀膜机设备请联系佛山市佛欣真空设备有限公司
建筑用玻璃采用镀膜技术已经十分盛行,因为这种镀膜,不但
以美化和装饰建筑物,而且可以节约能源
近些年来,随着真空镀膜技术由过去传统的蒸发镀膜和普通
二级溅射镀膜发展为磁控溅射镀膜、离子镀膜、分子束外延、离
束溅射等一系列新的镀膜工艺,七彩真镀膜机,几乎任何材料都可以通过真空
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镀膜的方法涂覆到其他材料的表面上,这就为真空镀膜技术在各
种工业领域中的应用开辟了更加广阔的道路。
这是因为在玻璃上镀射膜可以使低纬地区的房屋避免炎热的阳光直射室内,从而节
了空调费用,玻璃上镀滤光膜和低辐射膜,可使阳光射入,而作
室内热源的红外辐射又不能通过玻璃辐射出去,这在高纬地区
可达到保温节能的目的。
实际应用表明,磁场在平行靶平面移动的阴极靶结构可使放电区内的电子跑道扩展,镀膜机,对靶材的溅射均匀,尤其在多成分复合靶材溅射时所得膜层的均匀性可得到改善。如图员圆鄄圆园 所示,该结构可将传统标准磁控溅射靶的靶材的利用率从圆园豫左右提高到源园豫 耀缘园豫。但是这种靶磁场结构的缺点是结构比较复杂,增加了靶的制造难度和成本。想了解更多离子真空镀膜机|金属表面镀膜机|真空镀膜机设备请联系佛山市佛欣真空设备有限公司