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直流溅射法要求靶材能够将从离子轰击过程中得到的正电荷传递给与其紧密接触的阴极，从而该方法只能溅射导体材料，不适于绝缘材料，因为轰击绝缘靶材时表面的离子电荷无法中和，这将导致靶面电位升高，外加电压几乎都加在靶上，不锈钢真空电镀设备厂家，两较间的离子加速与电离的机会将变小，甚至不能电离，导致不能连续放电甚至放电停止，荷城真空电镀设备，溅射停止。故对于绝缘靶材或导电性很差的非金属靶材，须用射频溅射法。

矩形平面磁控溅射靶的磁路系统主要由内磁条、外磁环及轭铁组成，如图员圆鄄圆 所示。其中内磁条和外磁环的磁荷密度分别为 σ圆 和 σ员，且符号相反。内磁条和外磁环可以分解成若干个单元磁体，图 员圆鄄圆 中外磁环分成源 个单元磁体，内磁条为员 个单元磁体，真空电镀设备制造商，各自尺寸及其中心与孕点距离如图所示。由于轭铁的存在，计算平面靶磁场时应作镜像磁荷面的假想，该面以轭铁界面（即气体与高磁导率介质间的界面）为对称面，在 原 扎园 存在σ符号相反的磁较面。