龙江真空电镀设备|佛欣真空|真空电镀设备制造商

对真空镀膜室焊接的具体要求有：

（1）为了减少漏孔和漏气量，焊缝的总长度应尽可能的短。

（2）应避免采用十字交叉的焊缝结构，焊缝的高度应大于壳体厚度的三分之一；两焊缝中心线之间的距离应大于员园园 皂皂。

（3）全部焊缝都可以被方便地进行真空检漏。

（4）壳体上应尽量减少开孔。需要开孔时，容桂真空电镀设备，应较大限度地避免在壳体焊缝上开孔。

（5）为了防止壳体变形，五金真空电镀设备厂家，对于非气密性焊缝可用间断焊。

理想的靶磁场分布应该是在整个靶面范围内的均匀分布，尽量增强靶面范围内各处磁场的水平分量，提高其均匀性。但在经典的靶磁场结构中，不均匀分布的磁场会产生密度不均匀分布的等离子体，二手真空电镀设备价格，因而导致在靶面不同位置处的溅射速率不同和刻蚀速度不同，同时膜层沉积的均匀性也不好。显然增加靶磁场均匀性能够增加靶面刻蚀的均匀性，从而延长靶的寿命，提高靶材的利用率；同时合理的电磁场分布还能够有效地提高溅射过程的稳定性。