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这里所说的展平能力，实际是经过弯辊的薄膜所能达到的大
扩展量．即在假定薄膜与辊面间没有相对滑动的条件下，薄膜从进入
辊面到脱离辊面的过程中，蒸发真空镀膜设备报价，边部在宽度方向上能够向外侧移动的
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普通的磁控靶的刻蚀面为一条很窄的跑道，所以靶材的利用率非常低。如果能够让磁场依次周期性地分布在靶的整个表面上，则可使整个靶面都能被刻蚀，其结构原理如图员圆鄄员愿 所示。
在靶的磁体组合结构上加上运动部件，上虞真空镀膜设备，将整个磁体都置于水冷却中，蒸发真空镀膜设备公司，双向电机带动磁体沿着靶背面水平往复运动，使其产生的平行磁场也在靶面来回运动，从而使靶的刻蚀变为一个动态过程。想了解更多离子真空镀膜机|金属表面镀膜机|真空镀膜机设备请联系佛山市佛欣真空设备有限公司
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