依据员圆郾 愿郾 员 节靶的设计分析方法,河南金属镀膜设备,靶设计时需要根据靶的结构形
式和不同的靶基形式建立磁控靶仿真模拟分析的数学物理模型。建立模
型所依据的理论有:基于碰撞输运理论(分子平均自由程)和余弦分布理
论;基于扩散输运理论等。根据镀膜工艺的要求,金属镀膜设备定做,选择实际建模型的溅
射系统基本形式:
(员)矩形平面靶(基片固定):基本,简单。
(圆)矩形平面靶(基片直线匀速运动):在(员)的基础上修正、完善。
(猿)矩形平面靶(基片复合公自转运动)。
(源)圆平面靶(基片固定):基本,简单。
(缘)圆平面靶(基片复合公自转运动)。
(远)圆柱靶(基片固定和直线运动)。
相比,金属镀膜设备厂家,用于真空镀膜设备中更为合适。
图苑鄄缘 所示为典型带有氦气制冷机低温泵抽气系统的真空镀膜机。
低温泵抽气系统不需要前级泵,仅需要在粗抽过程中开动机械泵进行预
抽。它不需要用液氮冷阱来防止低温泵的返流。可在真空室内安装冷
阱、水冷障板或室温障板来屏蔽工作过程中的热载荷,但是这些障板也
会降低抽气系统的总抽速。低温泵可以用氢蒸气压规来监测*二级冷阵
的温度。