靶基距对基片上在靶宽度方向(载 方向)上的膜厚均匀性有很大影
响。图员猿鄄缘 给出了图员猿鄄源 所示的矩形靶结构在不同靶基距情况下,岳阳多弧离子镀膜机,沿
载方向(即靶的宽度方向)膜厚的相对分布。从图中可以看出,当靶基距
较小,如 澡 越圆缘 皂皂 时,多弧离子镀膜机订做,薄膜厚的位置大约在跑道上方,均匀性很差。
随着靶基距的增加,由于积分的效应,基片上不同点的膜厚差值变小,
均匀性逐渐变好。
图源鄄远为拨杆传动工件架的示意图。如果在真空室底板或真空室下
部的空间无法安排传动机构,而在真空室的**部有可能安排时,多弧离子镀膜机报价,这种结
构可将电机置于真空室的**部。其特点是结构简单,加工方便,制造成
本不高。
除上述四种工件架的传动方式外,根据基片形状,镀膜机工件
架的传动结构还可以采用链式传动形式。这几种工件架传动结构的
设计计算都是机械设计的常规计算,在有关的机械设计书籍中都可
以查到。