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真空室升降采用电机传动，其结构形式如图猿鄄员所示。电机经皮带减速后带动丝杠旋转，真空多靶磁控溅射镀膜机，螺母连同立柱做升降运动。立柱上端的转轴上的两个挂钩便将真空室提起。立柱的行程两端均装有限位开关，以控制真空室的行程。当真空室升起时，进口真空镀膜机品牌，若将定位销从定位槽中拧出，上海镀膜机，钟罩即可绕立柱旋转。

矩形平面磁控靶的端部会产生异常刻蚀现象，而导致端部区域靶材刻蚀较快的原因是靶端部区域磁场弱于直道区域磁场以及在弯道区域存在比较大的沿圆周方向的磁场分量。因而在靶磁场设计过程中，应该采用合适的磁场校正方法对靶的磁场进行整体设计，一方面使靶端部区域磁场分布与直道区域分布尽量接近，另一方面削弱弯道区域沿圆周方向的磁场分量。