磁控溅射镀膜机厂家_佛欣真空_云浮溅射镀膜机厂家

膜厚均匀度是衡量薄膜质量和镀膜设备性能的一项重要指标。对于磁控溅射镀膜，由于其电磁场不均匀，磁控溅射镀膜机厂家，尤其是磁场的不均匀分布造成不均匀的等离子密度，导致靶原子的不均匀溅射和不均匀的沉积。因此，离子束溅射镀膜机厂家，存在着膜厚不均匀的问题。可以采取措施使膜厚均匀度满足要求。根据镀膜产品的需要，膜厚均匀性程度的要求会有所不同。在一般工业生产中，膜厚的不均匀程度要求为 依（猿豫 耀 员缘豫）。为提高膜厚均匀度，可以采取优化靶磁场、优化靶基距、改变基片运动方式、改进靶充气结构、增加挡板机构、采用气体放电监控系统和膜厚监控仪等措施。

直流溅射法要求靶材能够将从离子轰击过程中得到的正电荷传递给与其紧密接触的阴极，多弧磁控溅射镀膜机厂家，从而该方法只能溅射导体材料，不适于绝缘材料，佛山溅射镀膜机厂家，因为轰击绝缘靶材时表面的离子电荷无法中和，这将导致靶面电位升高，外加电压几乎都加在靶上，两较间的离子加速与电离的机会将变小，甚至不能电离，导致不能连续放电甚至放电停止，溅射停止。故对于绝缘靶材或导电性很差的非金属靶材，须用射频溅射法。