常熟溅射镀膜机,佛欣真空,多弧磁控溅射镀膜机供应商

根据以上分析，高真空磁控溅射镀膜机厂家，磁场设计应该遵循的原则有：

（1）对于设计不同尺寸、相同比例的磁控靶，江都溅射镀膜机，靶装置的尺寸较大，所选择的永磁体的磁场强度应该相对弱一些，并且如果靶材较昂贵，或者需要**考虑靶材的利用率，靶磁场可以设计得低一些。

（2）如果**考虑增大靶的溅射速率，初始设计的磁场强度应该强一些，但是考虑到电离效率、功率效率、溅射速率等指标不会随着磁场强度的增加而成比例增加，磁场强度可以选择在饱和曲线的起始点处，因为过高的磁场强度会降低靶材的利用率，却没有增加电离效率、功率效率和溅射速率。

随着我国国民经济的发展，真空镀膜设备在工业中的应用越来越广，各领域的不同需求对真空镀膜设备的设计提出了越来越严格的要求。虽然近年来我国真空镀膜设备的设计和制造水平有了长足的进步，磁控溅射镀膜机性能参数，但是总体来说，国内真空镀膜设备的整体设计能力和生产水平不高，在品种和质量上难以参与国际市场的竞争。因此，加强高性能真空镀膜设备的设计开发工作，已是势在必行。