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尽管各种真空镀膜设备的沉积工艺、结构形式等各有不同，伦教pvd离子镀膜机，但就设备的基本工作原理和主要构件而言，pvd离子镀膜机厂家，大多数是类似的，pvd离子镀膜机批发，其设计计算原则和过程也是基本相同的。真空镀膜设备可以分别从真空室、蒸发或溅射靶源、工件架、充气布气系统、真空系统、加热系统、电源与电气控制系统、薄膜沉积工艺等方面进行设计。图员鄄员所示为磁控溅射镀膜设备的工程设计流程。

在真空溅射镀膜、真空离子镀膜和真空化学气相沉积等镀膜设备上都设有充布气系统。为了得到均匀的膜层，合理设计充布气系统是非常重要的。通过充布气系统的设计，pvd离子镀膜机生产商，气体密度的变化率在溅射沉积区域内尽量小，而在区域外，系统的流导要尽量的大，以提高抽气系统的效率。