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十一、 真空镀膜设备主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，河南真空镀膜机安装，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。真空镀膜设备的操作参照该设备说明书和真空镀膜机上各旋钮下的标注说明以及仪表盘指针显示。大体情况如下:

    1.检查真空镀膜设备各操作控制开关是否在'关'位置。

    2.打开总电源开关，真空镀膜设备送电。

    3.低压阀拉出。开充气阀，龙泉真空镀膜机，听不到气流声后，启动升钟罩阀，河南真空镀膜机多少钱，钟罩升起。

    4.安装固定钨螺旋加热子。把PVDF薄膜和铝盖板固定在转动圆盘上。把铝丝穿放在螺旋加热子内。清理钟罩内各部位，保证无任何杂质污物。

    5.落下钟罩。

    6.启动真空镀膜设备抽真空机械泵。

    7.开复合真空计电源（复合真空计型号：Fzh-1A)。

    8.当低真空表“2”内指针再次顺时针移动至6.7Pa时，低压阀推入。这时左旋钮“1”旋转至指向1区段测量位置。

    9.真空镀膜设备开通冷却水，启动扩散泵，加热40min。

    10.低压阀拉出。重复一次⑦动作程序：左下旋钮“1”转至指向2区段测量位置。低真空表“2”内指针顺时针移动，当指针移动至6.7Pa时，开高压阀（阀杆顺时针旋转）。

化学成分编辑薄膜均匀性概念

1.厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看（也就是1/10波长作为单位，约为100A），真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。 但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。2.化学组分上的均匀性： 就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很*的产生不均匀特性，SiTiO3薄膜，河南真空镀膜机工厂，如果镀膜过程不科学，那么实际表面的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量所在。 具体因素也在下面给出。3.晶格有序度的均匀性： 这决定了薄膜是单晶，多晶，非晶，是真空镀膜技术中的热点问题，具体见下。