光学真空镀膜机主要由真空镀膜机室、真空抽气机组限及电柜两部分组成,其广泛应用于微电子、光学成膜、民用装饰、表面工程等领域。光学真空镀膜设备在防止油污染和缩短工作周期等方面具有**的性能。
光学真空镀膜机工作原理是在高真空状态下、利用电子束对金属或非金属材料加热到适当的温度,南海离子镀膜机,材料受热后蒸发成蒸汽分子。它的平均自由程比蒸发源至被蒸发基片距离大,蒸发出来的蒸汽分子向四处直射,碰到基片就沉积在基片表面形成腊层。
溅射镀膜可用各种金属(如:铜、钛、铬、不锈钢、镍等)、半导体、绝缘体、混合物、化合物等材料作为靶材进行溅射,工具超硬膜离子镀膜机,不仅可以制备与靶材料组分相近的薄膜和组分均匀的合金膜及成分复杂的**导薄膜,还可以制备与靶材完全不同的化合物薄膜,pvd真空离子镀膜机,如氧化物、氦化物、硅化物等,用途非常广泛。此外,溅射镀膜还具有膜层与基体之间附着性好,膜层密度大、针孔少、纯度高,膜厚可控性和重复性好等特点,因此,它在干式镀膜占有重要地位。
磁控溅射镀膜机应用于塑料制品、陶瓷、树脂、水晶玻璃制品等、工艺品、塑料手机壳、电子产品、建材等行业。
该系列设备主要是使用直流(或中频)磁控溅射,磁控溅射离子镀膜机,可适应广泛镀膜靶材,如:铜、钛、铬、不绣钢、镍等金属材料,可以利用溅射工艺进行镀膜,可提高膜层的附着力、重复性、致密度、均匀度等特点。